Aplikacja notarialna IV rok
PROGRAM SZKOLENIA APLIKANTÓW NOTARIALNYCH
IV ROKU
IZBY NOTARIALNEJ W WARSZAWIE (NABÓR 2019)
Harmonogram szkolenia w 2023 roku - plik do pobrania
KOMUNIKAT
DLA APLIKANTÓW IV ROKU
IZBY NOTARIALNEJ W WARSZAWIE
31 maja 2023 r.
§1.
W imieniu Rady Izby Notarialnej ponownie przypominam, że zgodnie z art.71 §11 ustawy z dnia 14 lutego 1991r. Prawo o notariacie („Ustawa”), z dniem 30 czerwca 2023 roku upływa termin do złożenia u patrona co najmniej 20 (z łącznej liczby 70) projektów aktów notarialnych oraz co najmniej po 4 (z łącznej liczby 14) projektów wskazanych innych czynności notarialnych, o których mowa w art.79 pkt 1a, 2, 4, 5, 7 i 8 Ustawy.
§2
Prace, o których mowa w §1 należy, wzorem roku ubiegłego, zamieścić w Extranecie, w zakładce: „Projekty”. W tej samej zakładce patroni sporządzają recenzje tych prac.
§3.
Osoby, które były aplikantami w innych Izbach Notarialnych i obecnie zostały wpisane na listę aplikantów Izby Notarialnej w Warszawie:
- a wykonały prace, o których mowa w §1, w czasie, gdy były jeszcze aplikantami w innych Izbach Notarialnych, muszą skontaktować się niezwłocznie z biurem RIN w Warszawie w celu ustalenia sposobu przekazania tych prac,
- prace brakujące do pensum zamieszczają w Extranecie, zgodnie z zasadą opisaną w §
§4.
1. Opinię patrona (lub patronów) z przebiegu aplikacji proszę składać w formie elektronicznej do biura RIN niezwłocznie po dniu 30 czerwca 2023r., przesyłając ją na adres: z dopiskiem: „OPINIA PATRONA”.
2.Wnioski o wydanie zaświadczenia o ukończeniu aplikacji (załącznik nr 1), stosownie do art. 72 §1 Ustawy wraz z oryginałami opinii, o których mowa w ust.1 niniejszego paragrafu, prosimy składać do biura RIN po dniu 30 czerwca 2022 roku.
3. Do wniosku, o którym mowa w ust.1 powyżej należy dołączyć także oświadczenie o sposobie, ilości i terminie złożenia projektów prac wraz z recenzjami, zgodnie z załącznikiem nr 2 do niniejszego komunikatu.
Z poważaniem
Tamara Żurakowska – notariusz
Kierownik szkolenia aplikantów
___________________________________